EECE654 Plasma Processing (2007)

1. 강의 목표

Basic principle of low-temp. plasmas, plasma devices (CCP, PDP, and ICP in particular),

etching/deposition/plasma display and LCD backlight unit (BLU).

2. 선수 과목 및 수강의 필수사항

One course of E&M


3. 성적 평가 방법

Homeworks, exams


4. 강의 교재

MA Lieberman and AJ Lichtenberg: Principles of Plasma Discharge and Materials Processing, 2nd ed.(Wiley 2005)


5. 참고도서

F.F. Chen and J.P. Chang: Lecture Notes on Principles of Plasma Processing (Kluwer/Plenum 2003)

A Fridman and LA Kennedy: Plasma Phys. and Engineering (Taylor and Francis 2004)


6. 강의 진도 계획

Week (1-3) low-temperature plasma basics

Week (4-6) dc plasma discharge for display and light sources; plasma display and LCD BLU

Week (7-8) low-temp. plasma waves, transport, sheath issues

Week (9-11) low-temp. plasma devices for dry processing (CCP, ICP)

Week (12-14) plasma etching and deposition, plasmas ion implantation

7. 기타 참고 사항

English to be used in instruction; Korean to be used in discussions and questions-answers.

Separate gradings for plasma majors and non-majors.


8. 강의 자료


※ 강의 자료는 파워포인트 파일(ppt)로 먼저 다운을 받아서 프린트하여 사용하십시요. 가능하면 "Microsoft Equation"이 설치되어 있는 컴퓨터에서 프린트하는 것이 좋습니다.
※ Zip 파일이 같이 있는 것들은 주로 스캔한 그림 파일들 입니다. 되도록 zip 파일을 다운 받아서 프린트하시기 바랍니다.