ECE490 Plasma Processing


1. 강의 목표

An introduction to plasma and its application to dry etching, deposition processes in semiconductor processing and plasma display.

An entry level to plasma phenomena, simple computer simulations, plasma sources, and plasma display/processings.

2. 선수 과목 및 수강의 필수사항

An undergrad. E&M course


3. 성적 평가 방법

Homeworks, class projects, exams


4. 강의 교재

F.F. Chen: Introduction to plasma Physics (Plenum 2nd ed. 1984)


5. 참고도서

F.F. Chen and J.P. Chang: Lecture Notes on Principles of Plasma Processing (Kluwer/Plenum 2003)


6. 강의 진도 계획

week (1-4) FF Chen chs. 1-4: introduction of plasma, fluid plasma wave dispersions

week (5-9) FF Chen chs. 5, 7 and computer simulation: diffusion, kinetic theory and simulation

week (10-14) Chen and Chang: Plasma Sources lV, V, lX, Xll, Epilogue chapters.


7. 기타 참고 사항

A semester course on entry-level plasma in upper undergraduate (with graduate students attending) for the first time in POSTECH-EE history,

which is a must in many top-notch US/European univs.; plasma is used in semiconductor processing, displays (plasma display and backlight

lamp in LCD, and many other EUV/light sources); English to be used (with occasional Korean when in need)


8. 강의 자료


※ 강의 자료는 파워포인트 파일(ppt)로 먼저 다운을 받아서 프린트하여 사용하십시요. 가능하면 "Microsoft Equation"이 설치되어 있는 컴퓨터에서 프린트하는 것이 좋습니다.
※ Zip 파일이 같이 있는 것들은 주로 스캔한 그림 파일들 입니다. 되도록 zip 파일을 다운 받아서 프린트하시기 바랍니다.